TSMC сотрудничает в расширении производства фотошаблонов большого формата для High NA EUV

Компания Taiwan Semiconductor совместно с ASML продвигают 12-дюймовые фотошаблоны High-NA EUV. Это направлено на повышение производительности фабрик, снижение затрат на производство микросхем и облегчение ограничений при состыковке шаблонов. Совместные усилия позволят улучшить технологические процессы в производстве полупроводников.