EMASS продвигает границы технологий с помощью 16-нм ECS-DoT

EMASS, дочерняя компания Nanoveu, занимающаяся разработкой полупроводниковых технологий следующего поколения, сегодня объявила, что её система на кристалле ECS-DoT нового поколения, созданная на базе 16-нм техпроцесса, вступила в финальную стадию разработки, приближаясь к графическому системному проектированию (GDS), созданию пробного образца и производству на фабрике TSMC. Это новое устройство основано на уже существующем предложении EMASS на базе 22-нм ECS-DoT и укрепляет лидерство компании в области ультранизкого энергопотребления и Edge AI, расширяя возможности постоянной интеллектуальной обработки для более требовательных и высокоинтегрированных приложений.

Компания TSMC, где будет производиться новая система на кристалле, является крупнейшим в мире производителем полупроводниковых чипов. Технологии Edge AI активно используются в разнообразных устройствах, от умных ассистентов до автономных транспортных средств, что делает разработки EMASS актуальными для широкой аудитории.