Skip to content

Новости ИИ и чипы

ACM Research объявляет о значительном повышении производительности инструмента для очистки Ultra C Tahoe, предназначенного для фронтального производства полупроводников

globenewswire.com ACM

Улучшенная эффективность очистки для передового производства микросхем Значительная экономия химических веществ и экологические преимущества Улучшенная эффективность очистки для передового производства микросхем Значительная экономия химических веществ и экологические преимущества

Источник: globenewswire.com

ACM Research Announces Major Performance Breakthrough for Ultra C Tahoe Cleaning Tool for Front-End Semiconductor Manufacturing

Читать оригинал