Скрывает ли Intel от рынка нечто (замечательное) касательно своего узла 18A?

Intel станет первой компанией-производителем чипов, которая будет использовать литографию высокой числовой апертуры (high-NA EUV), что может дать ей преимущество перед TSMC. Компания давно нацелена на использование высокоапертурной технологии в своем узле 14A в 2028 году.

Технология высокоапертурной литографии позволяет создавать более мелкие и плотные структуры на чипах, улучшая их производительность и снижая энергоёмкость. В странах с развитой полупроводниковой промышленностью, таких как США и Южная Корея, ведутся активные исследования и разработки в области высокоапертурной Евстахиевой литографии. Это может значительно изменить рынок полупроводников, так как новые технологии обычно обеспечивают более высокую эффективность чипов и их производительность.