Может ли внедрение EUV с высоким апертурным числом ускорить долгосрочный рост доходов ASML?

Высоконакраявая литография с использованием экстремально ультрафиолетового (EUV) излучения от ASML Holdings переходит на стадию раннего внедрения. Спрос на чипы, стимулируемый развитием искусственного интеллекта, и переход на более продвинутые технологические узлы поддерживают долгосрочные перспективы роста компании. ASML является ведущим производителем фотолитографических систем, и технология EUV открывает новые возможности для повышения плотности компонентов на полупроводниковых пластинах. Такая технология необходима для производства современных процессоров и памяти, используемых в различных устройствах и системах.