Micron инвестирует $3,7 млрд в Японию для производства новых чипов DRAM

Новейшие станки для производства микросхем с экстремальной ультрафиолетовой литографией (EUV) будут использоваться для производства микросхем 1 гамма, которые могут применяться для массового производства материалов, необходимых в сложных приложениях, таких как сети обработки изображений. Micron станет первой полупроводниковой компанией, которая привезет технологию EUV в Японию для производства, заявила компания, добавив, что она рассчитывает внедрить EUV в производство на узле 1 гамма на Тайване и в Японии с 2025 года.