Lam Research делает ставку на ALD и сухой EUV: оправдаются ли ожидания?

Компания LRCX сосредоточила свои усилия на развитии технологии атомно-слоевого осаждения (ALD) и сухой литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV), чтобы улучшить производительность микрочипов. Однако ей предстоит столкнуться с ключевыми вызовами в виде конкуренции со стороны других компаний и макроэкономическими рисками. Например, конкуренция идет со стороны таких компаний, как ASML и Applied Materials, которые также активно исследуют и развивают новые технологии в области микроэлектроники. Кроме того, изменения в глобальной экономической обстановке могут оказать давление на стоимость производства и развитие новых технологий.