Компании Lam Research и JSR объединили усилия: смогут ли они лидировать в области высокоапертурной EUV литографии?

Компания LRCX объединилась с JSR для продвижения технологий EUV (экстремально ультрафиолетовой) литографии с высокой числовой апертурой (high-NA), сочетая инструменты и материалы для сухого резиста, чтобы стимулировать масштабирование чипов следующего поколения.

Предполагается, что технологии с высокой числовой апертурой улучшат разрешение и производительность полупроводниковых устройств, что позволит создавать более мелкие и мощные чипы. ЕСВ литография с высокой NA является важным шагом в развитии полупроводниковой промышленности, поскольку она позволяет улучшать точность производственных процессов и сокращать время на разработку новых чипов.