ASML: EUV Незаменим, но Опасения по Поводу Роста Сохраняются

Технология экстремального ультрафиолета (EUV) является незаменимой для производства полупроводниковых чипов, размер которых меньше 5 нм, так как она более экономически эффективна и обеспечивает более высокий выход. Последний отчет о доходах указал на возможное отсутствие роста в 2026 году из-за макроэкономических трудностей, которые становятся более ясными. Все больше и больше новых заводов строятся в мире крупными производителями полупроводников, такими как TSMC, которым потребуются машины EUV.

Технология EUV использует экстремально короткие длины волн, что позволяет наносить более тонкие слои на подложку, значительно улучшая разрешение и точность. Это делает её ключевой технологией для компаний, стремящихся поддерживать конкурентное преимущество на рынке. Крупнейшие производители оборудования для полупроводников, такие как ASML, остаются лидерами в области EUV и продолжают расширять свои производственные мощности, чтобы удовлетворить растущий спрос.